Plasma Sources Science and Technology

eISSN: 1361-6595pISSN: 0963-0252

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Aims and Scope

Plasma Sources Science and Technology is an international journal dedicated solely to non-fusion aspects of plasma science. The Journal was founded in 1992 by Professor Noah Hershkowitz of the University of Wisconsin–Madison who also served as Editor-in-Chief until 2007. Mark J. Kushner of the Michigan Institute for Plasma Science and Engineering, University of Michigan took over the leadership of the journal until 2013 when Professor Bill Graham, Queen's University Belfast, became Editor-in-Chief. Professor Graham was followed by Professor Uwe Czarnetzki, Ruhr University Bochum, who became Editor-in-Chief in 2017. Professor Czarnetzki is actively involved in the peer-review of every paper. Less

주요 지표

CiteScore
6.3
Eigenfactor
0.005 - 0.01
Impact Factor
< 5
Scite Index
0.94 5-Year SI
SJR
Q1Condensed Matter Physics
SNIP
1.53
4
Time to Publish
time-to-publish View Chart
5  Mo

저널 사양

개요
  • 출판사
    IOP PUBLISHING LTD
  • 언어
    English
  • 발행 주기
    Bi-monthly
일반 정보
닫기
게시 시간
배포 게시 시간
2022년에 게시된 기사
색인 게시 시간
개월발행된 논문 수
0-3 12%
4-6 53%
7-9 24%
>9 12%

관련 분야

Plasma jet
Argon
Ion energy
Electron density
Dielectric barrier discharge
Distribution function
Amplitude
Simulation
Frequency
Atmospheric pressure
External circuit
Power absorption
Plasma density
Electric field
Joule heating
Infrared
Tantalum
Electron temperature
Voltage pulse
Boltzmann equation

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자주 묻는 질문(FAQ)

언제부터 Plasma Sources Science and Technology가 퍼블리싱을 시작했나요? Faqs

Plasma Sources Science and Technology는 1992부터 현재까지 게시되고 있습니다.

얼마나 자주 Plasma Sources Science and Technology가 게시되나요? Faqs

{PH}가 Bi-monthly로 게시되었습니다.

Plasma Sources Science and Technology의 게시자는 누구인가요? Faqs

Plasma Sources Science and Technology의 게시자는 IOP PUBLISHING LTD입니다.

저널의 목표와 Plasma Sources Science and Technology의 범위는 어디에서 찾을 수 있나요? Faqs

Plasma Sources Science and Technology의 목표 및 범위에 대해서는 위 페이지의 섹션을 참조하세요.

에디티지에서 Plasma Sources Science and Technology의 저널 메트릭을 보려면 어떻게 해야 하나요? Faqs

Plasma Sources Science and Technology 메트릭에 대해서는 위 페이지의 섹션을 참조하세요.

Plasma Sources Science and Technology의 eISSN 및 pISSN 번호는 무엇인가요? Faqs

eISSN 번호는 1361-6595이고 pISSN 번호는 Plasma Sources Science and Technology의 경우 0963-0252입니다.

이 저널의 초점은 무엇인가요? Faqs

이 저널은 Plasma jet, Argon, Ion energy, Electron density, Dielectric barrier discharge, Distribution function, Amplitude, Simulation, Frequency, Atmospheric pressure, External circuit, Power absorption, Plasma density, Electric field, Joule heating, Infrared, Tantalum, Electron temperature, Voltage pulse, Boltzmann equation를 포함한 다양한 주제를 다룹니다.

내 연구에 적합한 저널을 찾는 것이 왜 중요한가요? Faqs

올바른 저널을 선택하면 연구가 가장 관련성이 높은 독자에게 도달할 수 있으며, 따라서 학술적 영향력과 해당 분야에 대한 기여도를 극대화할 수 있습니다.

저널 선택이 제 학업 경력에 영향을 미칠 수 있나요? Faqs

물론입니다. 평판이 좋은 저널에 출판하면 학술적 프로필이 향상되어 보조금, 종신 재직 및 기타 직업적 기회에 대한 경쟁력을 높일 수 있습니다.

영향력이 큰 저널만 타겟팅하는 것이 바람직합니까? Faqs

영향력이 높은 저널은 가시성이 높지만, 경쟁이 치열한 경우가 많습니다. 저널의 영향력 지수와 논문이 채택될 가능성의 균형을 맞추는 것이 중요합니다.